Graphitization Furnaces
高温石墨化炉
最高 3200℃卧式、立式、实验型、下出料、提纯、一拖多与连续式
查看本类设备
设备分类
按材料与工艺选择设备
从材料转变目标出发，先确定温度、真空、气氛和产能，再收敛到炉型与系统配置。
Carbonization Furnaces
高温碳化炉
800–2000℃真空碳化、脱焦、防腐、马弗式与连续碳化
查看本类设备Sintering & Powder Furnaces
陶瓷烧结与制粉炉
按材料体系定制AlN、SiC、WC、MIM、难熔金属与碳热还原
查看本类设备CVD & CVI Systems
CVD/CVI生长与增密炉
按反应窗口定制C/C增密、石墨烯、CNT/VGCF生长与提纯
查看本类设备Vacuum & Atmosphere Furnaces
真空多气氛炉
最高约 2000℃真空钎焊、退火和全金属热区
查看本类设备Auxiliary Systems & Testing
配套设备与实验服务
整线协同张力、MFC、真空、DCS、循环水、尾气与小样验证
查看本类设备核心装备
核心装备
覆盖实验室验证、批量生产与连续产线。结合材料形态、工艺环境和装料节拍选择设备。
NO. 01 · 卧式装料 · 片材与块状料高温石墨化炉
石墨烯片材卧式石墨化炉
Horizontal Graphitization Furnace最高 3000–3200℃
NO. 02 · 立式热场 · PI导热石墨片高温石墨化炉
PI高温石墨化炉
PI Film Vertical Graphitization Furnace最高 3000–3200℃
NO. 04 · 底部装卸 · C/C大型制品高温石墨化炉
下出料石墨化炉
Bottom-loading Graphitization Furnace最高 3000–3200℃
NO. 05 · 小型一体化 · 快速工艺验证高温石墨化炉
实验室石墨化炉
Laboratory Graphitization Furnace最高 3000℃
NO. 06 · 催化剂脱除 · 量产提纯高温石墨化炉
VGCF量产提纯炉
VGCF Production Purification Furnace按纯化目标定制
NO. 07 · 一套电源 · 多炉轮换高温石墨化炉
负极材料一拖四提纯石墨化系统
Multi-furnace Anode Material Graphitization System最高 3000–3200℃
应用路线
材料应用与工艺路线
A01
PI石墨片与石墨烯导热应用
PI膜或石墨烯薄膜经碳化与石墨化后形成高导热石墨片，用于手机、显示、LED和消费电子热管理。
应用方案A02碳/碳与碳陶复合材料
覆盖预制体碳化、CVI增密、石墨化及金属硅熔渗陶化，用于热场、制动和高温抗烧蚀部件。
应用方案A03石墨烯CVD生长
围绕铜箔等金属基材的单层石墨烯沉积，配置配气、压力、反应区和尾气系统。
查看应用路线A04燃料电池气体扩散层碳纸与碳布
连续碳化与石墨化使碳纸、碳布形成导电、导气和排水性能，服务燃料电池膜电极气体扩散层。
应用方案A05碳纤维、石墨化纤维与陶瓷纤维
从预氧化、低温碳化、中高温碳化到石墨化，通过连续走丝和张力控制获得高强、高模或耐高温纤维。
应用方案A06粉末冶金与先进陶瓷
覆盖AlN、SiC、WC、MIM及钨钼钽铌材料的脱脂、烧结、碳热还原和洁净高温处理。
应用方案A07真空钎焊、退火与特殊热处理
用于换热器、冷板、真空器件和难熔金属的洁净钎焊、退火、除气与高真空热处理。
查看应用路线选择晨昕
从材料需求到项目交付
从热场、电源、真空与气路到冷却、控制和联锁，围绕具体工艺共同设计。实验室、生产线与海外项目采用不同配置，技术方案按材料与产能确定。
- 真实设备与装配现场
- 工艺条件与选型沟通
- 工艺难点与解决逻辑
- 炉体与配套系统协同
RT1000℃碳化2400℃烧结3200℃石墨化